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8CCD阻焊曝光機

曝光機是20世紀60年初掃描電子顯微鏡基礎發展而來的一種新光刻技術在70年代后廣泛應用于半導體電路板生產制造。曝光機即電子串曝光機是集電子光學、機械、真空、電氣、計算機技術等于一體的復雜的半導體加工設備。廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域。


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該設備主要通過借助深圳雙翌的對位算法,利用四相機對PCB與菲林的四個角點靶標圖像識別,識別后進行均分對位同時也考慮產品來料的畸變等因素。

傳統手動曝光機,菲林與底板手工對位精度100um左右,重復定位靠人眼對位,勞動強度非常大,年輕人不愿意承擔,由于高精度、高速度的工藝需求,需要提高曝光機的核心競爭力。

通過對位平臺的運動,使得模板和菲林重合,理想的對位情況:菲林圓形靶標的中心和PCB同心圓靶標的中心完全重合,即效果為兩圓心重合。

 

外層:孔最大  即PCB板的孔為3.1725mm

           上菲林  次之   2.5mm(內徑為2.2mm)    2.2mm(內徑2.0mm)

           下菲林 實心圓  大小1mm或者0.8mm


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